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[工艺] 声光刻技术 (Sonolithography) 成型原理介绍

声光刻技术(Sonolithography)基于超声驻波干扰产生的声辐射力对空气中颗粒/液滴直接积聚的应用。超声波光刻技术能够在宏观尺度 (cm2) 表面积上的各种基板上快速形成微米至毫米级材料的图案，并且可用于间接和直接细胞图案化。该技术是由布里斯托大学和巴斯大学的研究人员于 2020 年发明。

2023/9/8

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深山闲士

所有的光芒，都需要时间才能被看到。